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超纯水传统的制备工艺是采用阴阳树脂交换设备，该工艺的缺点在于树脂在使用一段时间以后要经常再生。随着膜分离技术的不断成熟，常采用反渗透工艺，或是采用反渗透后面再经过电去离子EDI工艺、抛光混...
集成电路是一种微型电子器件或部件，它对于清洗用水的水质有着很高的要求，一旦清洗用水中含有杂质，就会产生水垢，影响其电阻率，影响其成品率，超纯水设备生产的超纯水电阻率可达到18 MΩ*cm(25℃)，符合集...
与混床相比，在相同流量处理能力的情况下，EDI超纯水系统占地面积要小得多，约为混床的1/10。这种对用户友好的设计是通过消除巨大的再生存储和废水中和系统来实现的。...
EDI超纯水设备具有较高的性价比和设备可靠性。出水水质除水分子外几乎不含杂质，电阻率可达18mΩ·cm，满足芯片生产用水需求。...
超纯水系统采用反渗透技术+EDI+抛光混床系统制备超纯水。它是一种纯物理过程的制备技术。其出水电阻可达18mΩ·cm(25℃)，具有长期不间断运行、自动运行、操作简单、水质稳定、无污染物、成本低等...
EDI超纯水设备用以生产制造纯水，不用再造化工品，运作低成本。EDI系统自动化程度高，可以连续工作。出水量水体优良平稳，出水量电阻低≥15mΩ·cm。...
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